硅中硼检测

  • 发布时间:2024-02-20 13:59:19

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  硅中硼检测哪里可以做?中析研究所检测中心提供硅中硼检测服务,出具的硅中硼检测报告支持扫码查询真伪。服务领域:半导体工业、玻璃工业、陶瓷工业、核工业、冶金工业、化学合成、电池材料和防腐涂料。服务项目:硼含量检测、杂质检测、结晶质量检测、电学性能检测等。实验室工程师严格按照相关标准进行实验,并且提供非标实验定制服务。

  检测周期:7-15个工作日,参考周期

  检测样品

  多晶硅,单晶硅,多晶硅片,单晶硅片,硅膜。

  检测项目

  硼含量,杂质,结晶质量,电学性能。

  检测方法

  原子吸收光谱(AAS):这是一种常用的化学分析方法,可以测定硅样品中的硼含量。样品通常通过酸溶解后,使用原子吸收光谱仪测量硼的吸收特征线来确定硼的浓度。

  电感耦合等离子体发射光谱(ICP-OES):这是一种高灵敏度的光谱分析方法,可以用于测定硅样品中硼的含量。样品通常需要经过酸溶解和稀释后,使用ICP-OES仪器测量硼的发射光谱来确定其浓度。

  质谱法:质谱法可以用于硅中硼的定量分析。样品通常需要经过溶解和适当的前处理后,使用质谱仪测量硼的质谱信号来确定其含量。

  离子色谱法:离子色谱法可以用于测定硅样品中硼的含量。样品通常需要经过溶解和稀释后,使用离子色谱仪分离和测定硼离子。

  核磁共振:核磁共振技术可以用于硅中硼的定量分析。该方法基于硼原子核的磁共振信号来确定硼的含量。

  检测仪器

  原子吸收光谱仪(AAS),电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES),质谱仪,离子色谱仪,X射线衍射仪(XRD),扫描电子显微镜(SEM),霍尔效应测量仪、四探针测量仪。


  检测标准

  GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法

  GB/T 20176-2006表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

  GB/T 32495-2016表面化学分析二次离子质谱硅中砷的深度剖析方法

  GB/T 24580-2009重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法

  GB/T 13389-2014掺硼掺磷掺砷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程

  GB/T 29851-2013光伏电池用硅材料中B、Al受主杂质含量的二次离子质谱测量方法

  GB/T 32281-2015太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的测定 二次离子质谱法

  GB/T 29056-2012硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法

  GB/T 34843-2017 3.3硼硅玻璃 性能