紫外光电子能谱

  • 发布时间:2023-06-13 00:00:00 ;TAG:电子 ;

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  标准分类中,紫外光电子能谱涉及到分析化学、电学、磁学、电和磁的测量、光学和光学测量、无损检测、有色金属、电子元器件综合。

  在中国标准分类中,紫外光电子能谱涉及到基础标准与通用方法、综合测试系统、电子光学与其他物理光学仪器、化学、化学助剂基础标准与通用方法、光学测试仪器、贵金属及其合金、重金属及其合金、标准化、质量管理。

  市场监督管理总局、中国标准化管理委员会,关于紫外光电子能谱的标准

  GB/T 36401-2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 薄膜分析结果的报告

  质检总局,关于紫外光电子能谱的标准

  GB/T 36401-2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 薄膜分析结果的报告

  GB/T 31472-2015 X光电子能谱中荷电控制和荷电基准技术标准指南

  GB/T 31470-2015 俄歇电子能谱与X射线光电子能谱测试中确定检测信号对应样品区域的通则

  GB/T 30704-2014 表面化学分析 X射线光电子能谱 分析指南

  GB/T 30702-2014 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 实验测定的相对灵敏度因子在均匀材料定量分析中的使用指南

  GB/T 29556-2013 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 横向分辨率、分析面积和分析器所能检测到的样品面积的测定

  GB/T 28893-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.测定峰强度的方法和报告结果所需的信息

  GB/T 28892-2012 表面化学分析.X射线光电子能谱.选择仪器性能参数的表述

  GB/T 28633-2012 表面化学分析.X射线光电子能谱.强度标的重复性和一致性

  GB/T 28632-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.横向分辨率测定

  GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

  GB/T 25185-2010 表面化学分析.X射线光电子能谱.荷电控制和荷电校正方法的报告

  GB/T 19500-2004 X射线光电子能谱分析方法通则

  GB/Z 32490-2016 表面化学分析 X射线光电子能谱 确定本底的程序

  中华人民共和国质量监督检验检疫总局、中国标准化管理委员会,关于紫外光电子能谱的标准

  GB/T 33502-2017 表面化学分析 X射线光电子能谱(XPS)数据记录与报告的规范要求

  英国标准学会,关于紫外光电子能谱的标准

  BS ISO 14701-2018 表面化学分析. X射线光电子能谱学. 二氧化硅厚度测量

  BS ISO 18554-2016 表面化学分析. 电子光谱. 采用X射线光电子能谱分析法对材料进行分析的X射线的意外降解的识别, 评估和修正程序

  BS ISO 19830-2015 表面化学分析. 电子能谱. X射线光电子能谱峰拟合的低报告要求

  BS ISO 17109-2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法

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  BS ISO 16531-2013 表面化学分析.深度剖析.在光电子能谱(XPS)和原子发射光谱(AES)的深度剖析中离子束校准和电流或电流密度的相关测量用方法

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  BS ISO 16243-2011 表面化学分析.X射线光电子能谱术(XPS)的记录和报告数据

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  BS ISO 14701-2011 表面化学分析.X射线光电子能谱学.二氧化硅厚度测量

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  BS ISO 10810-2010 表面化学分析.X射线光电子能谱法.分析指南

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  标准化组织,关于紫外光电子能谱的标准

  ISO 15470-2017 表面化学分析. X射线光电子能谱. 选择仪器性能参数说明

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  ISO 18554-2016 表面化学分析. 电子光谱. 采用X射线光电子能谱分析法对材料进行分析的X射线的意外降解的识别, 评估和修正程序

  ISO 19830-2015 表面化学分析. 电子能谱. X射线光电子能谱峰拟合的低报告要求

  ISO 17109-2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法

  ISO 16531-2013 表面化学分析.深度剖析.原子发射光谱(AES)和光电子能谱(XPS)中深度剖析用电流或电流密度的离子束校正和相关测量方法

  ISO 16243-2011 表面化学分析.X射线光电子能谱术(XPS)的记录和报告数据

  ISO 14701-2011 表面化学分析.X射线光电子能谱.二氧化硅厚度的测量

  ISO 10810-2010 表面化学分析.X射线光电子能谱学.分析导则

  ISO/TR 19319-2003 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.分析员对横向分辨率、分析区域和样品区域的目视检测

  日本工业标准调查会,关于紫外光电子能谱的标准

  JIS K0152-2014 表面化学分析. X射线光电子能谱分析. 强度标的重复性和一致性

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  JIS K0167-2011 表面化学分析.俄歇电子光谱和X射线光电子能谱学.匀质材料定量分析用实验室测定相对敏感因子的使用指南

  法国标准化协会,关于紫外光电子能谱的标准

  NF X21-073-2012 表面化学分析.X射线光电子能谱术(XPS)的记录和报告数据

  NF X21-071-2011 表面化学分析.X射线光电子能谱法.分析用导则

  NF X21-058-2006 表面化学分析.俄歇电子能谱学和X射线光电子光谱法.测定峰强度使用的方法和报告结果时需要的信息

  美国材料与试验协会,关于紫外光电子能谱的标准

  ASTM E995-2011 在俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中应用背景消除技术的标准指南

  ASTM E996-2010 俄歇电子光谱仪和X射线光电子能谱的报告数据的标准规程

  ASTM E996-2004 俄歇电子光谱仪和X射线光电子能谱的报告数据的标准规程

  ASTM E996-1994(1999) 俄歇电子能谱分析和X射线光电子光谱分析数据报告的标准规程

  行业标准-有色金属,关于紫外光电子能谱的标准

  YS/T 644-2007 铂钌合金薄膜测试方法 X射线光电子能谱法 测定合金态铂及合金态钌含量

  韩国标准,关于紫外光电子能谱的标准

  KS D ISO 19319-2005 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.分析员对横向分辨率、分析区域和样品区域的目视检测

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  KS D 2518-2005 镉光电子能谱分析法

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